半導體生產(chǎn)過程中的某些工藝涉及氣體與半導體基片的反應，比如沉積工藝和刻蝕工藝，氣體的流量將對工藝結果產(chǎn)生重要影響。為了使生產(chǎn)的半導體獲得較高的良品率，必須對流入反應腔室的氣體流量進行精確控制，尤其是隨著半導體工藝集成度的不斷提高，對氣體流量的誤差要求也進一步提高。
因而隨著真空、半導體等領域對微小氣體流量控制的需求，熱式質(zhì)量流量傳感器因其高精度的特點被廣泛采用。相比體積流量測量方式，熱式質(zhì)量流量傳感器不依賴介質(zhì)密度變化，避免了環(huán)境溫度變化帶來的測量偏差。熱式質(zhì)量流量傳感器主要由毛細管、熱源、溫度傳感器三部分組成，氣體經(jīng)過上游熱源并帶走熱量，使下游熱源初始溫度變化，通過溫度傳感器獲取上下游熱源溫差，此溫差與流體質(zhì)量流量成線性關系。工采網(wǎng)推薦使用瑞士IST 熱式質(zhì)量流量傳感器 - MFS02。
瑞士IST 熱式質(zhì)量流量傳感器 - MFS02對于大流量與快速響應的應用，CTA模式下有極高分辨率適用于通過橋式電路測量極低流量與泄漏檢測應用且對對腐蝕性氣體和蒸氣具有高耐化學性不同的靈敏度與電路拓撲結構可供選擇，支持用戶訂制，可測量流向。
瑞士IST 熱式質(zhì)量流量傳感器MFS02 參數(shù)：
滬公網(wǎng)安備31010802001143號
